版本说明:OpticStudio 19.4的八项优化

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版本说明:OpticStudio 19.4的八项优化

 

       OpticStudio 19.4从八个方面对原始版本进行了优化

 

 

  1. 实用性

  2. 编程

  3. 序列模式工具与功能

  4. 数据库与库文件

  5. Zemax实验室

  6. 性能与稳定性提升

  7. 文档方面

  8. BUG修复

 

 

      一、实用性

 

      1.1 全新授权管理器(全版本通用)

 

      便捷地接收、激活以及转移您的授权,OpticStudio 19.4 将推出全新授权管理器,极大地改进了授权的激活、转移、管理和故障排除等相关进程。

 

      如今,全新授权管理器将具有便捷的选项卡,将根据您所需要进行的操作,直接提供给您相关性最高的信息。

 

       1.2 可选择将匿名使用数据发送给Zemax以帮助改进OPTICSTUDIO(全版本通用)

 

       1.3 错误提示载入至帮助手册(全版本通用) 提供错误信息的简单解释和解决方法。可便捷地执行故障排除错误提示及其详细解释在帮助手册中的引入,使用户更简单地追踪到造成错误的原因。

       

 

      二、编程

 

       2.1  ZPL 宏编辑器内搜索功能(仅支持于专业版与旗舰版)使用新的 ZPL 搜索功能,体会前所未有的宏编辑/编写速度。

 

       2.2 通过 ZOS-API 查看非序列光线追迹中的能量损耗(仅支持于专业版与旗舰版)快速地得到光线追迹中由于追迹错误和阈值造成的总能量损耗。

 

      opticstudio19.4

 

      如今,可利用 ZOS-API 获取非序列光线追迹中由于追迹错误和阈值造成的总能量损耗信息。您可以通过查阅编程选项卡下的 ZOS-API 语法帮助获取关于上述语法的更多信息。

 

 

      2.3 通过 ZOS-API 获取材料库参数(仅支持于专业版与旗舰版)所有材料数据均可使用 ZOS-API 进行读取和创建。

 

 

      2.4 通过 ZOS-API 获取颜色探测器数据(仅支持于专业版于旗舰版)颜色探测器内的数据可通过 ZOS-API 进行读取。

      

      zemax-opticstudio19.4

 

       2.5 通过 ZOS-API 获取几何成像分析结果(仅支持于专业版与旗舰版)

 

      通过使用 ZOS-API 对几何成像分析进行全面定义和结果读取,如今,您可以使用 ZOS-API 查看和修改几何成像分析中的所有设置,并可以直接获取其结果。

 

      zemax opticstudio

 

 

      2.6  通过 ZOS-API 添加用户自定义随机种子值(仅支持于专业版与旗舰版)

 

      支持通过 ZOS-API 使用一致的随机种子值,实现相同的光线追迹,在设计和优化过程中,确保执行相同的光线追迹对于用户来说往往十分重要,其中一种实现的方式即确保每一追迹中用于随机化的种子值一致。

 

 

      三、序列模式工具与功能

 

      3.1     通过 CODE V ™至 OPTICSTUDIO 转换工具可将 CODE V™中 ZERNIKE FRINGE 表面转换至 OPTICSTUDIO(全版本通用)增添了对 Zernike Fringe 表面的支持,使 CODE V™ 至 OpticStudio 的文件转换更易实现。

 

 

      zemaxoptiestudio19.4

 

     

      3.2 通过CODE V™至 OPTICSTUDIO 转换工具可将CODE V™中二元面 2(BINARY 2) 的非球面项和相位项转换至 OPTICSTUDIO(全版本通用)。增添了对二元面 2 内非球面项和相位项的支持,使 CODE V™至 OpticStudio 的文件转换更易实现。

 

 

      zemaxopticstudio19.4

 

 

 

      四、数据库与库文件

 

      4.1   库文件更新(全版本通用)

将Ohara、Special Optics、EKSMA Optics、LIMO 以及 LaCroix 库文件更新至最新。

 

      材料库文件

 

      • Ohara 材料库文件已更新,新材料 S-LAH60MQ 已加入。

 

      • Infrared 材料库内 Germanium 材料的内透射数据已更新,数据来源为 Thorlabs 在 20 摄氏度下的测量结果。

 

      样板文件

 

      • Special Optics 更新了其样板列表。

 

      库存镜头库

 

      • EKSMA OPTICS 库存镜头库已更新,包含其最新可使用镜头。新镜头库内包含共 597 种镜头。

 

      • LIMO 库存镜头库已更新,移除了 1525.031-FAC350 镜头。

 

      膜层文件

 

      • LaCroix Precision Optics 在其加密 ZEC 膜层文件中添加了多种膜层。

 

      五、Zemax实验室 

 

      5.1 实验功能:格点矢高优化工具,查看和测试潜在新功能。

 

      Zemax 实验室内的格点矢高优化实验功能已更新。该功能仅供早期测试并将在最终应用前进行修改。相关内容并未载入至帮助手册中。您可以通过浏览帮助选项卡下的实验功能菜单,激活格点矢高优化功能。

      zemaxopticstudio19.4

      

 

 

      六、性能与稳定性提升

 

      OpticStudio 19.4 包含了以下功能方面的提升:

 

 

      序列模式工具和功能:

 

      • COVE V 至 OpticStudio 转换工具 – CODE V 至 OpticStudio 转换工具如今可以将包含无效玻璃名称的文件成功进行转换。无效的玻璃名称材料将被直接转换成为模型玻璃。

 

      • 转换为 NSC 组工具 – 非序列转换工具现已得到提升,可更精确地转换多重结构系统、对离轴视场点放置探测器以及根据虚拟面位置放置物体。

 

      • 最佳拟合球面计算 – 在最佳拟合球面的自动计算中,当基础曲率和最佳拟合球面曲率之间的符号不同时,可正确计算。

 

      • 物理光学传播 (POP) – POP 算法的系统效率可能出现稍大于 1 的情况,这是由于数值精度误差累计造成的问题,增加了特殊处理,已修复该问题。

 

     • 物理光学传播 (POP) – 针对 POP 算法内,从角谱传播算法转换到菲涅尔传播算法时,不同 Z 位置的 POP 光纤耦合结果存在不连续性的问题进行了修正。

 

     • POPD 操作数 – POPD 操作数内的二阶矩计算被固定,当传播超过瑞利范围时,也使用平面相位参考。

 

 

      非序列模式工具和功能:

 

      • 原生布尔物体 – 提升在混合模式系统内对原生布尔物体进行光线追迹的速度和稳定性。

 

      • GRIN DLL – 提升 GRIN9.dll 中,当用户输入指定参数不满足客观数学事实时(例如,当(x, y) = (0, 0) 时 g<2.0),DLL 的错误处理能力。

 

 

      七、文档

 

      中文帮助手册现已加入软件。可以在中文界面里,帮助菜单下,点击用户指南,打开中文帮助手册 PDF。

 

 

      八、BUG修复

 

      OpticStudio 19.4 将包含以下 Bug 修复:

 

      序列模式工具和功能:

 

      • 相对照度分析 – 对于相同几何结构,相对照度分析内对于虚像和实像平面显示的结果不一致的问题得到修复。

 

      • 物理光学传播 (POP) – POP 中文本结果内 X/Y 显示设置中的显示点数量增加,以匹配用户所选择的网格尺寸。

 

      • 物理光学传播 (POP) – 当在折射率大于 1 的材料内开始传播的时候,ZBF 波长可在空气中被缩放至正确波长大小 。

 

      • FTGT 和 FTLT 操作数 – 当模式为 0 时,FTGT 和 FTLT 操作数将使用当前两个表面之间的最大机械半直径,而不是单个表面的机械半直径。

 

      • 双折射输入表面 – 当选择模式 2 或者模式 3 时,双折射输入表面的 X-相位和 Y-相位现显示出正确的关系,并且匹配非序列模式下的双折射传播。

 

      • Zernike Fringe 矢高表面 – 先前关于 Zernike Standard 矢高表面内光线-表面交点的错误修复,现已应用于 Zernike Fringe 矢高表面内。

 

      • 对比度优化 – 无焦模式下的对比度优化内,将不会再错误地将 X 和 Y 方向应用相同的截止频率。

 

 

      非序列模式工具和功能:

 

      • BSDF 散射配置 – 当散射面绕法向量旋转时,对各向异性 BSDF 散射配置进行了修正。

 

      • 双角光源物体 – 对于相等或不相等的 X/Y 角度,如今双角光源都可以提供均匀的角向分布 。

 

      • 光致发光模型 – 反射发生后,斯托克斯波长偏移的光线强度如今可正确地反映电场矢量的大小。

 

      • 光致发光模型 – 粒子折射率与背景折射率匹配时荧光散射再发射现在应用了正确的米氏散射模型。

 

 

      编程:

 

      • 光致发光模型 – 如今,ZOS-API 可允许正确地将体散射设置为光致发光模型,并默认为与 GUI 使用相同的光谱文件。

 

 

      • Zernike 方法 – 如今,ZOS-API 可正确地反映 Zernike GetZn() 和 SetZn() 方法内的恰当参数列。

 

 

 

来源:Zemax China