Ansys Zemax OpticStudio

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一款结合了成像与照明设计特点的软件平台。

创建成像、照明以及激光系统

OpticStudio®已经被应用于航空航天工程、天文探测、自动化、生物医学研究、家用电子产品、机器人视觉等多个领域。

   

用户可以利用优化工具,比如使用可视化优化器,手动调整设计以达到期望的性能。也可以利用优化算法自动计算,通过改变透镜的曲率半径、厚度、材料等变量,算法会给出答案。我们提供多种算法,包括快速局部优化算法和全局优化算法。你还可以使用对比度优化快速优化 MTF。

 

利用公差分析确保可制造性

公差分析能够让生产更加容易。通过灵敏度公差分析可以计算每个参数的公差将如何影响整体系统的性能。反灵敏度公差分析则可根据系统公差的要求来反推每个参数的公差范围。蒙特卡罗公差分析能够模拟实际制造情况,让所有公差随机分布出现,查看其对系统成像的影响。

 

OpticStudio 支持 CAD 文件的导入、优化和导出

对于光路中的部分结构,OpticStudio 支持与 PTC Creo Parametric  动态链接。

 

OpticStudio 编程功能满足您的定制需求

 

三大功能满足定制需求
• ZOS API – 通过 OpticStudio 应用编程接口,用户可自行创建应用,自定义分析流程。
• Zemax 编程语言 – 用户可在 OpticStudio 中自定义宏。
• 自定义面型和物体 –用户可自定义系统表面的形状、相位、传递函数以及梯度折射率。


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